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第45章 光刻机技术（第3页）

不仅仅可以避开极紫外光的制造问题，还能一定程度的降低超高要求的镜片模组问题。

追赶西方是赶不上了，只能想办法弯道超车！

“叶博士，我已经将您的研究资料看完了，并且就其中的难点进行了一点点技术攻克。”

叶天明傻眼了。

于成伟等人懵逼了。

他看完了技术资料，还该进了？

换句话说，也就是他解决了现存的技术难题？

“我们先去生产线和实验室看看吧，后面再细谈这些技术细节。”

众人的震惊他尽收眼底。

或许在别人看来这个东西很困难，但是，他有道爷啊。

光的极限衍射问题最大的障碍就是超高的加速电压！

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目前能支撑研究的电压不超过百万伏特。

可是，自己弄出来了可控核聚变的啊！

至于高精度的钼或者硅反射镜，这些还是在“成像”雕刻的原理上需要的。

可他要的不仅仅是成像雕刻，他需要的是从分子级别来进行组建的碳基芯片的光刻机。

是可以制造一个“活着”的芯片的光刻机。

在于成伟的带领下，杨辰仔细查看了他们生产线和研发室。

心中大定！

还好，基本不会大动太多，稍加改造应该可以满足自己的需求！

众人来到一个大型会议室。

杨辰将之前提到的问题一一做了讲解，听得台下的几个顶级教授瞠目结舌。

杨辰的设想远超时代的进度！

1-28nm的全制程光刻机！

他们想都不敢想的东西。

可在杨辰的技术讲解下，众人居然产生了一个十分荒谬的感觉——就这？

好像真的不是很难的样子！

看着杨辰年轻的有些过分脸，感觉好不真实。

年龄差距很大！

实力差距也很大！

“技术问题我们就说到这里了，接下来我们谈谈合作的事宜了。”

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